FE系列矩形平面磁控溅射阴极

矩形平面阴极设计优点：

1、采用水冷阳极设计；

2、2进制工艺气体分布；

3、非平衡多跑道磁阵设计；

使用特点：

1、适用于DC、RF和Pulsed-DC大功率磁控溅射，提高了溅射薄膜沉积速率；

2、两端非均匀区域更小，提高了材料利用率，高材料利用率，材料利用率达到60%；

3、溅射薄膜厚度均匀性和成份一致性显著提高，可以达到±3%以内；

4、延长使用寿命30%以上；

5、延长了换靶间隔，提高了生产效率。